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簡要描述：Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM高反射率和低群延遲色散，以800 nm為中心的寬區(qū)域內(nèi)，具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2021-03-17訪 問 量：990相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM
Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM
高反射率和低群延遲色散，以800 nm為中心的寬區(qū)域內(nèi)，具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜。
產(chǎn)品介紹
Ø在以800 nm為中心的寬區(qū)域中具有高反射率和低群延遲色散
Ø硬質(zhì)介電體高反射或離子束濺射鍍膜
Ø激光損傷閾值> 50 mJ / cm2，50 fsec脈沖，800 nm典型值
EKSMA Optics提供720-880 nm鍍膜的寬帶低GDD超快激光反射鏡。這些超快反射鏡設(shè)計用于Ti：Sapphire激光器的一階諧波。
標準反射鏡具有高反射率（> 99％），并且為082-7288HHR物品（UV FS，Ø25.4x 6 mm）定了更高的反射率（> 99.8％）。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
產(chǎn)品型號
BK7
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, %(S+P)/2 |
071-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 3 mm | 45° | 99.0% |
071-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 3 mm | 0° | 99.0% |
071-7288T6 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.0% |
071-7288T6-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.0% |
072-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.0% |
072-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.0% |
074-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø38.1 x 8 mm | 45° | 99.0% |
074-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø38.1 x 8 mm | 0° | 99.0% |
075-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 45° | 99.0% |
075-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 0° | 99.0% |
077-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø76.2 x 12.7 mm | 45° | 99.0% |
077-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø76.2 x 12.7 mm | 0° | 99.0% |
078-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø101.6 x 15 mm | 45° | 99.0% |
078-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø101.6 x 15 mm | 0° | 99.0% |
UVFS
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, %(S+P)/2 |
081-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 45° | 99.0% |
081-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 0° | 99.0% |
081-7288T6 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.0% |
081-7288T6-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.0% |
082-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.0% |
082-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.0% |
082-7288HHR | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% |
082-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% |
084-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø38.1 x 8 mm | 45° | 99.0% |
084-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø38.1 x 8 mm | 0° | 99.0% |
085-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 45° | 99.0% |
085-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 0° | 99.0% |
087-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø76.2 x 12.7 mm | 45° | 99.0% |
087-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø76.2 x 12.7 mm | 0° | 99.0% |
088-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø101.6 x 15 mm | 45° | 99.0% |
088-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø101.6 x 15 mm | 0° | 99.0% |
規(guī)格：
鍍膜 | 硬電介質(zhì)高反射或離子束濺射 |
入射角 | 0或45±3° |
專為平均偏振而設(shè)計 | R =（Rs + Rp）/ 2 |
激光損傷閾值 | > 50 mJ / cm2，50 fsec，800 nm典型值 |
基材：
材料 | UV級熔融石英或BK7玻璃 |
S1表面平整度 | 633 nm時為λ/ 10 |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B） |
S2表面質(zhì)量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
楔 | <3分鐘 |
倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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