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簡要描述：Eksma 激光脈沖電動可變衰減器具有ø22 mm透明孔徑的電動可變衰減器，由薄膜偏振片，半波片和光機械組成，易于設置。波片的電動旋轉允許連續(xù)改變輸出光束的強度比。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質：代理商更新時間：2024-04-23訪 問 量：958詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 飛秒和ND：YAG激光脈沖電動可變衰減器990-0072M
Eksma 激光脈沖電動可變衰減器
具有?22 mm透明孔徑的電動可變衰減器，由薄膜偏振片，半波片和光機械組成，易于設置。波片的電動旋轉允許連續(xù)改變輸出光束的強度比。
產(chǎn)品介紹
?將激光束分為兩束手動調節(jié)的強度比，以68°角分開
?大動態(tài)范圍
?透射光束偏移?1mm
?高光學損傷閾值
Eksma 激光脈沖電動可變衰減器
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時透射p偏振光，并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學接觸）中。半波片直徑25.4mm（用于飛秒應用）或零級空氣間隔半波片（用于高功率應用），其放置在旋轉的偏振片支架840-0190-01中，并放置在入射的線性偏振激光束中。
可以通過旋轉波片來連續(xù)改變那兩個分離且不同的偏振光束的強度比，而無需改變其他光束參數(shù)。可以在很寬的動態(tài)范圍內控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。
840-0056-12運動學安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調整為±4.5°，并獲得較大的消光對比度。支架位于桿，桿支架和可移動基座820-0090上。
距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內調節(jié)?？梢蕴峁┢渌叨茸鳛槎ㄖ疲詫藴蕳U和桿架更改為更高的高度。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
產(chǎn)品型號
飛秒激光脈沖
型號 | 波長 | 損壞閾值 | 配置 |
990-0072-343M | 343 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-343M+CP | 343 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-400M | 400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-400M+CP | 400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-515M | 515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-515M+CP | 515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800M | 800 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800M+CP | 800 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800BM | 780-820 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800BM+CP | 780-820 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030M | 1030 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030M+CP | 1030 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030BM | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030BM+CP | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
大功率激光應用
型號 | 波長 | 損壞閾值 | 配置 |
990-0072-266HM | 266 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-266HM+CP | 266 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-343HM | 343 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-343HM+CP | 343 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-400HM | 400 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-400HM+CP | 400 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-515HM | 515 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-515HM+CP | 515 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800HM | 800 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800HM+CP | 800 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800HBM | 780-820 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800HBM+CP | 780-820 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030HM | 1030 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030HM+CP | 1030 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030HBM | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030HBM+CP | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
旋轉分辨率：全步模式 在1/8步進模式下 |
|
較高轉速 | 50 deg/s |
適用于Nd：YAG激光應用
孔徑 | 22 mm |
損害閾值 | >5 J/cm2 |
偏振對比 | >1:200 |
飛秒應用
孔徑 | 22 mm |
損害閾值 大功率激光應用： | > 10 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型值 > 100 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型值 |
時間色散 | 對于100 fs Ti：藍寶石激光脈沖，t<4 fs |
偏振對比 | >1:200 |
推薦設置
控制器 | 980-1045 |
電源 | PS12-2.5-4 |
上述控制器和電源已包含在衰減器套件中，其代碼結尾為“ + CP"。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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