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Eksma 飛秒級線性偏振激光束的可變衰減器

簡要描述:Eksma 飛秒級線性偏振激光束的可變衰減器
該可變衰減器/分束器由特殊設計的光機適配器和精密的光機支架840-0197組成。適配器中裝有兩個薄膜布魯斯特型偏振片,它們反射s偏振光同時透射p偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-04-23
  • 訪  問  量:840

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 飛秒級線性偏振激光束的可變衰減器

990-0070

Eksma 飛秒級線性偏振激光束的可變衰減器

將激光束分為兩個平行光束,它們的強度比可手動調節(jié),動態(tài)范圍大,透射光束偏差可忽略不計,光學損傷閾值高。

產(chǎn)品介紹

?將激光束分為兩束可手動調節(jié)強度比的平行束

?大動態(tài)范圍

?可以忽略的透射光束偏差

?高光學損傷閾值

?S -Pol衰減范圍?0.25%-99.0%P-Pol衰減范圍?0.5%-95.0%

該可變衰減器/分束器由特殊設計的光機適配器和精密的光機支架840-0197組成。適配器中裝有兩個薄膜布魯斯特型偏振片,它們反射s偏振光同時透射p偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。

可以通過旋轉波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數(shù)。可以在很寬的動態(tài)范圍內控制出射光束的強度或其強度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調整±2°,并獲得較大的偏振對比度。

產(chǎn)品型號

飛秒激光脈沖

型號

波長

激光損傷閾值

990-0070-343

343 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-400

400 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-400B

390-410 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-515B

505-525 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-515

515 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-800

800 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-800B

780-820 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-1030

1030 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-1030B

1010-1050

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

大功率激光應用

型號

波長

激光損傷閾值

990-0070-266H

266 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-343H

343 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-400H

400 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-400HB

390-410 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-515H

515 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-515HB

505-525

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-800H

800 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-800HB

780-820 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-1030H

1030 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0070-1030HB

1010-1050 nmn

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm


孔徑

17 mm

損害閾值

大功率激光應用:

> 10 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型值

> 100 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型

時間色散

對于100 fs Ti:藍寶石激光脈沖,t<4 fs

偏振對比(一個偏振片之后)

>1:200

偏振對比(二個偏振片之后)

>1:500


EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。


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