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Eksma 平凹透鏡-3

簡要描述:Eksma 平凹透鏡-3
這些透鏡的邊緣比中心厚,一側平坦。平凹透鏡用于擴展光束或增加光學系統(tǒng)的焦距。它們通常用于高峰值功率脈沖激光器的光束擴展。入射在凹面上的光束將聚焦到儀器外部的一點。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-23
  • 訪  問  量:750

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 平凹透鏡-3


這些透鏡的邊緣比中心厚,一側平坦。平凹透鏡用于擴展光束或增加光學系統(tǒng)的焦距。

Eksma 平凹透鏡-3

產(chǎn)品介紹

Ø焦距為負

Ø散發(fā)準直入射光

Ø僅形成通過鏡頭看到的虛像

Ø以負無限或近無限共軛比率降低球差,彗形像差和畸變

Ø凹面朝向較長的共軛距離

這些透鏡的邊緣比中心厚,一側平坦。平凹透鏡用于擴展光束或增加光學系統(tǒng)的焦距。它們通常用于高峰值功率脈沖激光器的光束擴展。入射在凹面上的光束將聚焦到儀器外部的一點。

伴隨模式中斷或材料損壞,可能會在不需要的焦點處進行空氣加熱和電離。為避免此問題,應反轉輸入透鏡,以使凹面不面對平行光束。

這些鏡片可使用多種抗反射鍍膜。對于合適的鍍膜,請參考“鍍膜”部分。如果需要,我們可以提供定制的切割,磨邊,鍍膜或完整的加工。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品信息

 

CaF2, Size: dia 25.4 mm

型號

材料

焦距

直徑

ROC

CT

ET

鍍膜

112-5204E

CaF2

-40 mm

25.4 mm

-16.7 mm

2.5 mm

7.8 mm

Uncoated

112-5205E

CaF2

-50 mm

25.4 mm

-20.9 mm

2.7 mm

7 mm

Uncoated

112-5209E

CaF2

-75 mm

25.4 mm

-31.4 mm

2.8 mm

5.5 mm

Uncoated

112-5211E

CaF2

-100 mm

25.4 mm

-41.8 mm

3 mm

5 mm

Uncoated

112-5217E

CaF2

-150 mm

25.4 mm

-62.7 mm

2.7 mm

4 mm

Uncoated

112-5219E

CaF2

-200 mm

25.4 mm

-83.6 mm

3 mm

4 mm

Uncoated

112-5223E

CaF2

-250 mm

25.4 mm

-104.6 mm

3.2 mm

4 mm

Uncoated

112-5225E

CaF2

-300 mm

25.4 mm

-125.5 mm

3.4 mm

4 mm

Uncoated

112-5228E

CaF2

-400 mm

25.4 mm

-167.3 mm

3.5 mm

4 mm

Uncoated

112-5230E

CaF2

-500 mm

25.4 mm

-209.1 mm

2.6 mm

3 mm

Uncoated

112-5235E

CaF2

-1000 mm

25.4 mm

-418.2 mm

2.8 mm

3 mm

Uncoated

CaF2, Size: dia 50.8 mm

型號

材料

焦距

直徑

ROC

CT

ET

鍍膜

112-5519E

CaF2

-200 mm

50.8 mm

-83.6 mm

3.6 mm

7.2 mm

Uncoated

112-5525E

CaF2

-300 mm

50.8 mm

-125.5 mm

3 mm

5.6 mm

Uncoated

112-5530E

CaF2

-500 mm

50.8 mm

-209.1 mm

4 mm

5.5 mm

Uncoated

Stock Standard Lenses with AR Coatings

型號

材料

焦距

直徑

ROC

CT

ET

鍍膜

112-1105E+AR1064HT

UVFS

-25 mm

12.7 mm

-11.9 mm

1.3 mm

3 mm

AR/AR@1064 nm, R<0.1%

112-1109E+ARD1030HT

UVFS

-50 mm

12.7 mm

-23.8 mm

2.2 mm

3 mm

AR/AR@515+1030 nm, R<0.1%

112-1121E+AR1030HT

UVFS

-175 mm

12.7 mm

-83.2 mm

2.8 mm

3 mm

AR/AR@1000-1060 nm, R<0.1%

112-1205E+ARB300

UVFS

-50 mm

25.4 mm

-23.8 mm

1.9 mm

5.5 mm

AR/AR@210-400 nm, R<2%

112-1205E+AR515HT

UVFS

-50 mm

25.4 mm

-23.8 mm

1.9 mm

5.5 mm

AR/AR@500-530 nm, R<0.1%

112-1205E+ARB800HT

UVFS

-50 mm

25.4 mm

-23.8 mm

1.9 mm

5.5 mm

AR/AR@700-900 nm, R<0.1%

112-1211E+AR1030HT

UVFS

-100 mm

25.4 mm

-47.6 mm

3 mm

4.7 mm

AR/AR@1000-1060 nm, R<0.1%

112-1211E+ARB1000HT

UVFS

-100 mm

25.4 mm

-47.6 mm

3 mm

4.7 mm

AR/AR@900-1100 nm, R<0.1%

112-1215E+ARD1064HT

UVFS

-125 mm

25.4 mm

-59.4 mm

3 mm

4.4 mm

AR/AR@532+1064 nm, R<0.1%

112-1217E+AR1030HT

UVFS

-150 mm

25.4 mm

-71.3 mm

3.1 mm

4.2 mm

AR/AR@1000-1060 nm, R<0.1%

112-1217E+ARB800HT

UVFS

-150 mm

25.4 mm

-71.3 mm

3.1 mm

4.2 mm

AR/AR@700-900 nm, R<0.1%

112-1217E+ARD1030HT

UVFS

-150 mm

25.4 mm

-71.3 mm

3.1 mm

4.2 mm

AR/AR@515+1030 nm, R<0.1%

112-1219E+AR800HT

UVFS

-200 mm

25.4 mm

-95.1 mm

3.1 mm

4 mm

AR/AR@760-840 nm, R<0.1%

112-1219E+ARD1030HT

UVFS

-200 mm

25.4 mm

-95.1 mm

3.1 mm

4 mm

AR/AR@515+1030 nm, R<0.1%

112-1221E+AR800HT

UVFS

-250 mm

25.4 mm

-118.9 mm

3.3 mm

4 mm

AR/AR@760-840 nm, R<0.1%

112-1223E+AR800HT

UVFS

-300 mm

25.4 mm

-142.7 mm

3.4 mm

4 mm

AR/AR@760-840 nm, R<0.1%

112-1255E+AR800HT

UVFS

-5000 mm

25.4 mm

-2377.5 mm

2 mm

4 mm

AR/AR@760-840 nm, R<0.1%

112-1509E+AR800HT

UVFS

-100 mm

50.8 mm

-47.6 mm

5 mm

11.9 mm

AR/AR@760-840 nm, R<0.1%

112-1512E+AR800HT

UVFS

-150 mm

50.8 mm

-71.4 mm

3.2 mm

7.9 mm

AR/AR@760-840 nm, R<0.1%

112-1517E+AR800HT

UVFS

-250 mm

50.8 mm

-118.9 mm

3.1 mm

5.7 mm

AR/AR@760-840 nm, R<0.1%

112-1519E+AR800HT

UVFS

-300 mm

50.8 mm

-142.8 mm

3.5 mm

5.8 mm

AR/AR@760-840 nm, R<0.1%

 

材料


BK7, UV FS, CaF2

表面質量


40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

通光孔徑


90% of the diameter

直徑公差

+0.00-0.12 mm

厚度公差

±0.2 mm

表面不規(guī)則

λ/8 @ 633 nm

CaF2表面不規(guī)則

λ/4 @ 633 nm

同心度

3 arcmin

近軸焦距:

   BK7

   紫外線FS

   鈣2

 

±2% @ 546 nm
±2% @ 355 nm
±2% @ 2940 nm

 

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。

EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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